Grafit siliconitzat Vs. Sic

El material de grafit de carboni té auto-lubricació, alta resistència mecànica, baix coeficient de fricció, resistència a la temperatura alta, bona anti-roba, àmpliament utilitzada en maquinària, indústria química, petroli, instrumentació, bombes i altres camps. Els materials de grafit convencionals són menys que ideals en termes de resistència al desgast i resistència a la corrosió, mentre que el grafit silicificat, com a material d’enginyeria nou, té les propietats tant del grafit de carboni com del carbur de silici, i s’utilitza en una àmplia gamma d’aplicacions.

Què és el silicida de grafit?

El grafit siliconitzat és un material compost compost per una capa de carbur de silici recobert a la superfície del material de grafit. Gruix de la capa de carbur de silici d’1 ~ 1,5 mm, capa de carbur de silici i matriu de grafit combinat de prop. La duresa del silicida de grafit és en realitat la duresa de sic, que només és de diamant, nitrur de bor, carbur de bor i superior a la duresa del carbur de tungstè i del triòxid d’alumini.

El silicida de grafit no només té l’auto-lubricació de materials de grafit de carboni, bona conductivitat elèctrica i tèrmica, resistència i segellat de xoc tèrmic, sinó que també té els avantatges de gran resistència, resistència a l’oxidació, resistència a la corrosió química del carbur de silici i és particularment adequat per a Càrregues pesades, altes temperatures i altres ocasions exigents, de manera que els materials de silicides de grafit són cada cop més utilitzats en el camp de segellat, fricció, indústria química, metal·lúrgia i indústria nuclear i aeroespacial i nuclear.

Preparació del silicida de grafit

Hi ha tres mètodes principals de producció de la deposició de vapor químic del silicit de grafit (CVD), la reacció de vapor químic (CVR) i el mètode de reacció de permeació de silici líquid.

1. Mètode de deposició de vapor químic (CVD))) Mètode

El gas que conté silici i carboni a través de la descomposició tèrmica del substrat de grafit d’alta temperatura, generant SIC dipositat a la superfície del substrat de grafit. Matèries primeres per a triclorometilsilà (CH3SIC3), tetraclorur de silici, hidrogen, vapor de silici, etc. El rang de temperatura de deposició és ampli, de 1175 a 1775 ℃. La capa sic generada per aquest mètode és molt dens i uniforme, el gruix general d’uns 0,1 ~ 0,3 mm, però la combinació de sic i substrat de grafit per a l’enllaç mecànic pur, la força d’enllaç és feble, en el canvi ràpid de la temperatura sic sic La capa és propensa a esquerdar -se, pelar -se.

2. Mètode de reacció de fase de vapor química (CVR)

Matèries primeres per a pols de coca i excés de quars de sorra o pols de sílice amorfa, quan s’escalfen a 2000 ℃ Quan es produeix la reacció química, la generació de vapor SiO, vapor SiO i substrat de carboni per generar sic. La capa sic i el substrat de carboni dos no tenen interfície evident, l'enllaç és molt fort, en el cas de canvis sobtats de temperatura i no es produirà la càrrega elevada, però el mètode CVR és la penetració de gas SiO del substrat de carboni per dur a terme la reacció , així que encara conserveu la naturalesa porosa del substrat de carboni. Tanmateix, el mètode CVR és la reacció de la infiltració de gas SiO a la matriu de carboni, per tant, encara conserva la naturalesa porosa de la matriu de carboni, quan s’utilitza com a material de segellat, cal utilitzar la impregnació de resina o el mètode CVD per omplir els porus .

3. Permeació de silici líquid

Aquest mètode també pertany a una mena de CVR. En condicions de buit, escalfat a 1700-1900 ℃, el substrat de carboni directament immers en el líquid de silici fos, el silici líquid penetra gradualment al substrat de carboni, la reacció es va produir per generar sic. El 99,9999% de la matèria primera del silici pur. Gruix de capa de fins a 3,5 mm. Després de la reacció, el substrat de carboni conté aproximadament el 17% del silici lliure per omplir la base del porus, de manera que el substrat s’ha convertit en dens i impermeable. Tot i això, la presència de silici lliure redueix la resistència a la corrosió i la resistència a l’oxidació a alta temperatura del grafit silicificat.

Diferència entre grafit siliconitzat i sic

1. El grafit siliconitzat (grafit siliconitzat) és un material compost compost per una capa de carbur de silici recobert a la superfície del material de grafit. La duresa del grafit siliconitzat és la duresa sic, només és de diamant, nitrur de bor, carbur de bor, que el carbur de tungstè, l’òxid d’alumini i una altra gran duresa. El silicida de grafit es pot utilitzar com a àcid fosfòric, amina de fòsfor i coixinets de bomba d’àcid hidrofluòric. A més, la indústria de semiconductors, com a creixement epitaxial de silici del substrat i el dispositiu de làmina de calor i la fabricació d’articulacions artificials, vàlvules cardíaques artificials, arrels de dents artificials.

2. El carbur de Silicon (sic) està fabricat amb sorra de quars, coque de petroli (o coque de carbó), fitxes de fusta (la producció de carbur de silici verd necessita afegir sal) i altres matèries primeres a través del forn de resistència a la fosa d’alta temperatura. El carbur de silici també existeix a la natura com el rar mineral, la moissanita. El carbur de silici també es coneix com a sílice de carboni. A les matèries primeres refractàries C, N, B i altres matèries primeres de tecnologia d’alta tecnologia no òxids, carbur de silici per als més utilitzats, el més econòmic, es poden anomenar sorra d’acer daurada o sorra refractària. Actualment, la producció industrial de carbur de silici de la Xina es divideix en carbur de silici negre i carbur de silici verd de dos tipus, són cristalls hexagonals, gravetat específica de 3, 20 ~ 3, 25, microhardness de 2840 ~ 3320kg/mm2

Què és el silicida de grafit i en quines indústries s’utilitza?

El grafit siliconitzat és un material compost format per una capa de carbur de silici recobert a la superfície del material de grafit. La duresa del silicida de grafit és la duresa de sic, que només és de diamant, nitrur de bor, carbur de bor i superior al carbur de tungstè i al trioxid d’alumini. El silicida de grafit es pot utilitzar com a àcid fosfòric, àcid fosfòric i coixinets de bomba d’àcid hidrofluòric. A més, la indústria de semiconductors, com a creixement epitaxial de silici del substrat i el dispositiu de làmina de calor i la fabricació d’articulacions artificials, vàlvules cardíaques artificials, arrels de dents artificials. El carbur de silici està elaborat amb sorra de quars, coque de petroli (o coque de carbó), xips de fusta (la sal s’afegeix per produir carbur de silici verd) i altres matèries primeres mitjançant fosa d’alta temperatura en un forn de resistència. El carbur de silici també existeix a la natura com a mineral rar, moissanita. El carbur de silici també es coneix com a sílice de carboni. A les matèries primeres refractàries C, N, B i altres matèries primeres de tecnologia d’alta tecnologia no òxids, carbur de silici per als més utilitzats, el més econòmic, es poden anomenar sorra d’acer daurada o sorra refractària. Actualment, la producció industrial de carbur de silici de la Xina es divideix en dos tipus de carbur de silici negre i carbur de silici verd, són cristalls hexagonals, gravetat específica de 3, 20 ~ 3, 25, microhardness de 2840 ~ 3320kg/mm2.

El silicida de grafit com una mena de material compost compost compost de grafit reforçat en carbur de silici, no només té la gran duresa, la resistència al desgast i la resistència a l’oxidació de temperatura d’alta temperatura del carbur de silici, sinó que també té les bones propietats auto-lubricants del grafit, la conductivitat tèrmica i el baix coeficient de coeficient de coeficient de L’expansió tèrmica, que es pot aplicar a segells mecànics i altres peces d’alta precisió.

La cara final de segellat del segell mecànic està composta per l’anell dinàmic giratori instal·lat a l’eix i l’anell estàtic fixat al seient, que requereix que el material tingui una bona resistència al desgast, un coeficient baix de fricció, resistència a la corrosió, alta conductivitat tèrmica, i un fort rendiment sísmic i el grafit silicida pot complir amb precisió aquests requisits. Es mesura quan el valor fotovoltaic (pressió de segellat i velocitat del producte) fins a 147mpa-m/s, anell d’acer de carbur que produeix esquerdes d’estrès tèrmic i un anell de segellat autocontractat de silicides grafit M/s sense danys. A més, també es pot utilitzar per blindatge de bombes i segells d'aigua del motor dièsel de gran potència i altres segells. El silicida de grafit es pot utilitzar com a àcid fosfòric, àcid fosfòric i coixinets de bomba d’àcid hidrofluòric. A més, la indústria de semiconductors, com a creixement epitaxial de silici del substrat i el dispositiu de la placa de calefacció i la fabricació d’articulacions artificials, vàlvules cardíaques artificials, arrels de dents artificials, etc.

Ompliu el nostre formulari de consulta breu avui per parlar directament amb un dels nostres enginyers d'aplicacions amb experiència.